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Wednesday, August 17, 2016

ALD Lab Saxony auf der ALD2016 in Dublin, Irland

Unter inhaltlicher Leitung von Herrn Dr. Simon Elliott (Tyndall National Institute) und Herrn Dr. Jonas Sundqvist (Lund University & Fraunhofer IKTS) fand die weltgrößte ALD Konferenz dieses Jahr in Dublin (Irland) statt.
 

Mehr als 800 Teilnehmer, zu gleichen Teilen Forschungs- und Industrievertreter, informierten sich zu den Fokusthemen „Atomic Layer Deposition and Etching“ und tauschten sich zu aktuellen Entwicklungen und Anwendungen aus. Besondere Aufmerksamkeit konnte das ALD Lab Saxony im Feld „ALD Precursor Screening„ und "3D Integration - Advanced Packaging“ verzeichnen.

 

Auf dem Gemeinschaftsstand des ALD Lab Saxony präsentierten sich unsere Mitglieder mit ihren Leistungen, Produkten und Kompetenzen. Die stetig hohen Besucher- und Interessentenzahlen am Stand unterstreichen die wachsende Bedeutung des „Atomic Layer Processing“ für die Wirtschaft.

Höhepunkt für das ALD Lab Saxony war zweifelsohne die Präsentation von 18 wissenschaftlichen Veröffentlichungen durch Mitglieder von ALD Lab Saxony. Abgerundet wurde das Konferenzprogramm mit einem Besucherrundgang durch das Tyndall National Institute.

Weitere Informationen u.a. zu den Fachvorträgen finden sie hier
 
 
Die nächste ALD Konferenz in 2017 wird in Denver, Colorado (USA) stattfinden und bietet Ihnen bereits jetzt lukrative Sponsoring-Pakete.

Thursday, June 2, 2016

ALD Lab Saxony at ALD2016

ALD Lab Saxony presenting oral presentations at ALD2016


Wege, Stephan
plasway-Technologies GmbH, Germany
Plasma Processing Reactor Design
Sunday 24 July: Tutorial: Plasma processing - Sunday 24 July 14:15-15:45
14:45-15:15

Hossbach, Christoph
TU Dresden, Institute of Semiconductors and Microsystems, Germany
Organic electronic devices with inorganic high-k gate oxides grown by Atomic Layer Deposition
Tuesday 26 July: High-k dielectrics 1 - Tuesday 26 July 08:45-10:15
09:15-09:30

Junige, Marcel
Technische Universität Dresden, Germany
The ALD of Ru and RuO2 – An intertwined special case
Wednesday 27 JULY: Noble metals - Wednesday 27 July 08:15-10:15
09:15-09:30

Knaut, Martin
Technische Universtität Dresden, Institute of Semiconductors and Microsystems, Germany
Atomic layer deposition and 3D nanoscale substrates - nanowires, nanotubes and nanopores
Wednesday 27 JULY: High aspect ratio nanostructures - Wednesday 27 July 16:00-17:30
16:00-16:15